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特点

截面研磨速率高达1 mm/h*1！

新研发的PLUSII离子枪发射出高电流密度离子束，大幅提高*2了研磨速率。

*1Si突出遮挡板边缘100 µm，1个小时最大加工深度

*2研磨速率是本公司产品(IM4000PLUS:2014生产)的2倍

截面研磨结果对比
(样品：自动铅笔芯、研磨时间：1.5小时)

本公司产品IM4000PLUS
本公司产品IM4000PLUS
ArBlade 5000
ArBlade 5000

最大截面研磨宽度可达8 mm！

使用广域截面研磨样品座，加工宽度可达8 mm，十分适用于电子元件等的研磨。

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复合型研磨仪

全新的复合型(截面研磨、平面研磨)离子研磨仪广受好评。
可根据需求对样品进行前处理。

截面研磨

切割或机械研磨难以处理好的软材料或复合材料的截面制作

截面研磨加工示意图
截面研磨加工示意图

平面研磨

机械研磨后样品的精修或表面清洁

平面研磨加工示意图
平面研磨加工示意图

规格

通用
使用气体 Ar(氩)气
加速电压 0～8 kV
截面研磨
最快研磨速率(材料Si) 1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1
最大研磨宽度 8 mm*2
最大样品尺寸 20(W) × 12(D) × 7(H) mm
样品移动范围 X ±7 mm、Y 0~+3 mm
离子束间歇加工功能 标准配置
摆动角度 ±15°、±30°、±40°
平面研磨
最大加工范围 φ32 mm
最大样品尺寸 φ50 × 25(H) mm
样品移动范围 X 0～+5 mm
离子束间歇加工功能 标准配置
旋转速度 1 r/m、25 r/m
倾斜角度 0～90°

*1Si突出遮挡板边缘100 µm，1个小时最大加工深度

*2使用广域截面研磨样品座时

选配

项目 内容
高耐磨遮挡板 耐磨遮挡板是标准遮挡板的2倍左右(不含钴)
加工监测用显微镜 放大倍率 15×～100× 双目型、三目型(可加装CCD)